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レーザーテック(6920)が6日ぶり最高値、日経報道受けEUV向けフォトマスクに期待
レーザーテック(6920)が大幅続伸、6日ぶりに上場来高値を更新した。7日付の日本経済新聞の報道が支援材料になった。次世代の半導体製造技術「EUV(極端紫外線)」を巡り、装置メーカーの競争が激化する。東京エレクトロンが2021年3月期に過去最大の開発費を投じるほか、レーザーテックの受注高は過去1年で倍増した。EUV関連機器ではオランダのASMLが中核の露光装置を独占するが、検査や光源などで日本勢の存在感が高まるとしており、EUV向けフォトマスク受注拡大と収益貢献へ期待が高まった。
by 株価チャート「ストチャ」
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