ブイ・テクノロジー<7717>が急反発。20日、フォトマスク製造装置の受注残が、24年3月期中間決算にで過去最高額を更新、約75億円になったと発表たことを受け、収益上振れを期待した買いが向かった。レガシー半導体増産の大規模設備投資が本格化するなか、半導体用に再設計した高速・高精度の欠陥検査装置「ディオーネ」が受注を牽引している。
提供:株式市場新聞社 marketpress.jp
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ブイ・テクノロジー<7717>が急反発。20日、フォトマスク製造装置の受注残が、24年3月期中間決算にで過去最高額を更新、約75億円になったと発表たことを受け、収益上振れを期待した買いが向かった。レガシー半導体増産の大規模設備投資が本格化するなか、半導体用に再設計した高速・高精度の欠陥検査装置「ディオーネ」が受注を牽引している。
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